幹研磨濕研磨抛光的基本原理
幹研磨,主要是嵌入研磨平板表面的砂粒起切削作用。當零件在研磨壓力的作用下,在嵌有砂粒的研磨平板上相對滑動時,砂粒對被研磨表面的高點産生壓縮作用,由于內應力的增大而産生彈性變形。當應力大過屈服點後,之後進入塑性變形,晶粒和晶粒之間産生滑移,隨著變形的增大,之後失去聯系而破裂,這便是所謂的研屑。研磨輔料的存在,改&善了切削條件,促進了研磨質量和效率的提高。當然,在切削作用的同時,還存在著其它一些輔助作用。如氧化膜的形成和去除;砂粒擠壓産生的塑性變形作用;摩擦和切削所起的熱熔作用,這些作用隨著磨料粒度的細化而增強。
濕研磨,由于不間斷的添加研磨劑,不但有新砂粒參加研削,而且砂粒的各個微刃變換切削,使各個鋒刃都發揮了作用,同時冷卻潤滑條件良好。隨著研磨劑中活化輔料的增加,化學作用和電化學作用也隨之增強。這是使之成爲高&效率研磨方法的主要原因。
抛光是一個_複雜的加工過程。研磨劑中品種繁多的活化物質大量增加,化學作用_活躍頻繁,磨料只起到破壞氧化膜的作用。同時,某些磨料的本身起著化學作用。如氧化鉻中的遊離硫磺蒸汽與金屬表面起化學作用,形成了一層很薄的強度很低的硫化膜,它對硬脂酸和氧化鉻起吸附作用。當零件與研具相對滑動時,吸附在零件表面的氧化鉻將高點的硫化膜破壞,重新露出新鮮的金屬,複而又形成硫化膜,這樣反複不斷的對零件的波峰進行光整加工。
由于研具用極軟的材料制成,砂粒在抛光過程中,往往存在于軟基體之中,因而在一&定範圍內,磨料的粒度對抛光效果影響不是很明顯。